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| 本文作者： 三川 | 2017-02-28 15:19 |
Google Summer of Code 2017，合作機構名單公布
傳英特爾將推出消費級 12 核 24 線程 CPU
用 GAN 來提升光學天文望遠鏡觀測極限
IBM 公布 7nm 制程最新技術成果
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Google Summer of Code (GSoC) 是谷歌與開源社區各大機構合作，舉辦的一年一度大學生實習/實踐項目。參與者將在指導機構的導師幫助下，參與項目研發。
昨日，谷歌公布了 2017 屆 Summer of Code 的指導機構名單。名單上共有 201 家開源組織，其中有大名鼎鼎的 Tor，Mozilla，Python Software Foundation，R for Statistical Computing，The Linux Foundation，The Wine Project，Wikimedia Foundation 等等。名單太長，就不一一列舉了。
這些機構將負責對 GSoC 2017 實習生的指導。
GSoC 2017 將在 3 月 20 日開放報名，參與者將能夠選擇自己中意的指導機構。雷鋒網了解到，原則上，只要是在校大學生、年滿十八歲都可以報名。
名單列表地址：https://summerofcode.withgoogle.com/organizations/
GSoC 2017 官網：https://developers.google.com/open-source/gsoc/timeline
在硬件方面，AMD Ryzen 的發布毫無疑問是這段時間的頭條新聞。
雖然 Ryzen 評測還未出，但業內媒體和專業人士均預計：英特爾 Z270 平臺的主流產品線憑借較高的 IPC，在家用、游戲 PC 領域所受沖擊將較為有限；但 X99 平臺的 Broadwell-E 產品線將受到巨大打擊——面對性能相似、價格只有其不到一半的 Ryzen，Broadwell-E 對專業領域消費者而言實已經沒有任何購買價值。一些國外自媒體人（Redgaming Tech 等）甚至用 “annihilated”、“demolished”（被滅掉、摧枯拉朽）等字眼來形容 Broadwell-E。
近日，意大利 PC 新聞網站 bitsandchips.it 披露，英特爾正考慮將 12 核 24 線程的 CPU 在消費級市場商業化，作為 Skylake-X Extreme 產品推出。
藍廠是打算維持 1000+ 美元的 i7 Extreme 產品線？如果這樣——AMD，看你的了，把 16 核 Naples 也弄到消費級市場把。
不過，對普通人來說如此多核心并沒有什么意義。看到該消息最激動的大概是數據、AI 工程師或者視頻內容制作者——花更少價錢就能買到 12 核 Xeon。
雷鋒網提醒，該消息尚未得到英特爾或任何其他媒體證實。
詳情：http://www.bitsandchips.it/
玩攝影的都知道，鏡頭光圈大小是限制圖像清晰度的一大因素——鏡頭越大，捕捉到的光線越多。
這對天文望遠鏡同樣成立。而光學天文觀測，是一個沒有止境的領域——永遠有更遠、更暗淡、更模糊的天體等待被發現。
近日，蘇黎世聯邦理工學院（ETH Zurich）的學者，利用 GAN （生成對抗網絡）技術生成了迄今為止最清晰的光學天文學圖像，使原始圖像中模糊的恒星誕生區域以及塵埃帶變得可觀測。
對該項研究的意義，ETH Zurich 教授 Kevin Schawinski 表示：
“現在，我們可以著手處理很多年前的天文望遠鏡的觀測圖像，使它們顯露出更多的細節。這項技術可被應用于哈勃望遠鏡的最深層宇宙圖像，以及詹姆斯·韋伯太空望遠鏡，幫助我們對宇宙最早期的結構做更深層次的了解。”
詳情：http://www.kurzweilai.net/neural-networks-promise-sharpest-ever-images
雷鋒網消息在本周的 SPIE 大會（ International Society for Optics and Photonics Advanced Lithography conference），IBM 發表了七篇研究論文，全都關于 7nm 芯片制程上的最新技術創新成果。其中，Extreme Ultraviolet (EUV，超紫外) 光刻技術是核心課題。
IBM 表示，7nm 制程技術發展到成熟量產階段的速度，將會非常快。
順便說一句，IBM 和英特爾都表示，EUV 技術將使摩爾定律得以延續。信不信，由你。
論文列表：
Design intent optimization at the beyond 7nm node: The intersection of DTCO and EUVL stochastic mitigation techniques
Investigation of alternate mask stacks in EUV lithography
Comprehensive analysis of line-edge and line-width roughness for EUV lithography
Fundamentals of EUV resist-inorganic hardmask interactions
Ultrathin EUV patterning stack using polymer brush as an adhesion promotion layer
Driving down defect density in composite EUV patterning film stacks
Single-expose patterning development for EUV lithography
論文地址請見 IBM 官網：https://www.ibm.com/blogs/research/2017/02/ibm-spie-seven-advancements-beyond-7nm-chips/
今日，康奈爾大學發布了他們最近一期計算機科學討論會上的嘉賓談話筆記。來自 UC Berkeley 的計算機視覺（CV）專家 Philip Isola，介紹了 CV 在無監督學習領域的最近技術進展。他談話的重點是 Pointwise Mutual Information（PMI），即點互信息，一項無須人工標記，讓計算機自動識別圖像結構的技術。
地址：http://cornellsun.com/2017/02/27/computer-science-colloquium-do-machines-see-what-i-see/
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